在光學(xué)設(shè)計(jì)中，適當(dāng)?shù)乜紤]不良反應(yīng)是很重要的。例如，可能發(fā)生在每一個(gè)光學(xué)裝置非鍍膜表面上的多次反射所引發(fā)的鬼像效應(yīng)，而且其對(duì)系統(tǒng)性能的影響也應(yīng)該被檢測(cè)。最近發(fā)布的非時(shí)序擴(kuò)展，VirtualLab可用于方便地分析影響，正如前面提到的鬼像。通過靈活的配置每個(gè)表面的通道，以及其他數(shù)值參數(shù)，可以調(diào)整手中系統(tǒng)的模擬，以便分析不同的情況和改變準(zhǔn)確度。 AbX#wpp!  
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在任何光學(xué)系統(tǒng)中，總有造成鬼像的雜散光。雜散光可能有不同的起源，如不良反射和散射。以大孔徑激光二極管的準(zhǔn)直透鏡系統(tǒng)為例。在VirtualLab中由非時(shí)序追跡引擎研究表面之間的反射，多次反射可能導(dǎo)致平行光束的干涉條紋。 iW[%|ddk  
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VirtualLab可以用來執(zhí)行光線以及場(chǎng)追跡。數(shù)值模擬的控制通常是通過各種參數(shù)規(guī)范來操作。在VirtualLab中這些通常是以準(zhǔn)確性因子的形式形成。該文檔解釋了在VirtualLab中使用提供的準(zhǔn)確性因子來控制光線和場(chǎng)追跡引擎，集中在非時(shí)序仿真的設(shè)置。 IKp/xj[!
 
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