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Zemax與你相約CIOE 2019！

發(fā)布：zemax官方 2019-08-15 16:57 閱讀：3821
Zemax 將攜最新版 OpticStudio 以及 LensMechanix 亮相第21屆中國光博會(huì) (CIOE)   uOx"oR|  
展位號(hào): 9E11    2019年9月4-7日   &<(&u`S  
歡迎廣大新老客戶蒞臨！
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現(xiàn)場講座
高良率優(yōu)化技術(shù)講座
9月4日 下午2:00 - 2:30
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傳統(tǒng)上，我們會(huì)對(duì)光學(xué)設(shè)計(jì)先進(jìn)行優(yōu)化，之后再進(jìn)行公差分析，這是兩個(gè)單獨(dú)的步驟。基于這樣的流程，最終實(shí)際生產(chǎn)出的成品性能往往與設(shè)計(jì)性能存在一定的差異。將這兩個(gè)步驟整合是否會(huì)改進(jìn)成品性能？這正是高良率優(yōu)化要解決的問題。歡迎蒞臨 Zemax CIOE 展位聆聽我們的工程師為您帶來相關(guān)的技術(shù)講座。
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