摘要：為了快速獲取不平整度達(dá)數(shù)微米量級(jí)的
光學(xué)表面面形分布，提出一種基于變傾角移相的斜入射動(dòng)態(tài)
干涉儀方案。 基于邁克耳遜
干涉儀主光路
系統(tǒng)，采用 2×2 點(diǎn)
光源陣列，通過精確控制各點(diǎn)光源在干涉腔的入射傾角，引入等間隔移 相，結(jié)合
透鏡陣列實(shí)現(xiàn)空間分光，在單個(gè)
CCD 上同時(shí)采集四幅移相干涉圖，實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)測(cè)量。在 68°斜入射角下測(cè)量了 口徑 35 mm 硅片的平整度，均方根(RMS)值為 1.631 μm，峰谷(PV)值為 9.082 μm。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，將變傾角同步移 相技術(shù)引入斜入射干涉系統(tǒng)，可以克服環(huán)境震動(dòng)的干擾，在保證高
精度的前提下拓寬了可見光干涉儀的測(cè)量范圍。
b%nkIP A bag&B Hw 關(guān)鍵詞：干涉測(cè)量；斜入射；動(dòng)態(tài)干涉儀；表面平整度
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