摘要：精密測量是精密機(jī)械加工的基礎(chǔ)，是制造行業(yè)中影響制造精度的決定性因素之一，在當(dāng)代精密機(jī)械制造領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。基于光柵的精密位移測量系統(tǒng)以其對環(huán)境要求小，測量分辨率高等優(yōu)點(diǎn)，在精密位移測量領(lǐng)域占據(jù)重要位置。基于光柵的精密位移測量系統(tǒng)包括光學(xué)測量系統(tǒng)、信號接收、電子學(xué)細(xì)分及整體裝調(diào)幾部分。本文主要針對光學(xué)測量光路部分進(jìn)行綜述介紹。首先介紹了經(jīng)典光柵干涉位移測量原理；其次，綜述了基于光柵的精密位移測量系統(tǒng)的關(guān)鍵技術(shù)現(xiàn)狀；再次，對比分析了幾種最具有代表性的測量技術(shù)，總結(jié)其優(yōu)缺點(diǎn)；最后，對基于光柵的精密位移測量技術(shù)進(jìn)行展望，揭示其高精度、高分辨力、高魯棒性、微型化、多維化、多技術(shù)融合的發(fā)展趨勢。

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關(guān) 鍵 詞：位移測量；光柵；高精度測量；衍射干涉