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    [分享]VirtualLab:高NA (數值孔徑)物鏡的分析 [復制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2019-11-22
    高NA(數值孔徑)物鏡常用于光學顯微及光刻,并已廣泛在其他應用中得以使用。眾所周知,在高數值孔徑物鏡的使用中,電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個眾所周知的例子就是由高NA(數值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時,焦斑的不對稱性:焦斑不再是圓的,而是拉長的。我們通過具體的物鏡實例來說明了這些效應,并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的探測器分析焦斑。 4qbBc1,7y  
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    高數值孔徑物鏡的聚焦分析
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    高數值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學光刻、顯微系統(tǒng)等。在對焦斑的模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。 K.nHii   
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    高數值孔徑(NA)物鏡系統(tǒng)的先進點擴散函數計算
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    當線性偏振高斯光束經高數值孔徑(NA)非球面透鏡聚焦時,由于矢量效應,焦平面上的PSF呈現(xiàn)非對稱性。 sA/D]W.P  
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    (來源:訊技光電
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