高NA(
數值孔徑)
物鏡常用于
光學顯微及光刻,并已廣泛在其他應用中得以使用。眾所周知,在高數值孔徑物鏡的使用中,電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個眾所周知的例子就是由高NA(數值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓
光束時,焦斑的不對稱性:焦斑不再是圓的,而是拉長的。我們通過具體的物鏡
實例來說明了這些效應,并演示了如何在
VirtualLab Fusion中使用不同的
探測器分析焦斑。
4qbBc1,7y k&q;JyUi 高數值孔徑物鏡的聚焦分析
m6K}|j j'<<4.( 高數值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學光刻、顯微
系統(tǒng)等。在對焦斑的
模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。
K.nHii f:,DWw`B 高數值孔徑(NA)物鏡系統(tǒng)的先進點擴散函數計算
[{,T.;'<j GPv1fearl 當線性偏振高斯光束經高數值孔徑(NA)
非球面透鏡聚焦時,由于矢量效應,焦平面上的PSF呈現(xiàn)非對稱性。
sA/D]W.P x8\?}UnB 有關更多信息,請發(fā)送郵件至:
support@infotek.com.cn /
support@infocrops.com qzLPw*; 網址:
http://www.infotek.com.cn /
http://www.honglun-seminary.com ~i{(<.he f4b/NG| (來源:訊技光電)
7~%?#