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摘要 ~RM_c 0Q/BTT%X 高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場(chǎng)追跡分析。 通過(guò)光場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。 照相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應(yīng)。 +_fxV|}P
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u+^#:; 建模任務(wù) 6$+F5T
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 DTV"~>@ $Jy1=/W& 入射平面波 ,3ivB8 波長(zhǎng) 2.08 nm ^X?3e1om 光斑直徑： 3mm s4\_%je<v 沿x方向線偏振
cCy*?P@ .ktyA+r8v 如何進(jìn)行整個(gè)系統(tǒng)的光線追跡分析？ DmpD`^?-L 如何計(jì)算包含矢量效應(yīng)的焦點(diǎn)的強(qiáng)度分布？ x_K JCU & FzZpH 概覽 "M :0l Uy •樣品系統(tǒng)預(yù)設(shè)為包含高數(shù)值孔徑物鏡。 >^KO5N-:4 •接下來(lái)，我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對(duì)樣本系統(tǒng)進(jìn)行模擬。 tsTCZ);(
~d6zpQf7>  Z:%~ Al: 光線追跡模擬 Bt-2S,c,o •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為模擬引擎。 arj?U =zy •點(diǎn)擊Go！ n |I5ylt •獲得3D光線追跡結(jié)果。 e/!xyd
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 )KD*G;<O]L 5@@ilvwzz 光線追跡模擬 sq' bo8r •然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為模擬引擎。 vq JjAls •單擊Go！ nx'D&, VX •結(jié)果，獲得點(diǎn)圖（2D光線追跡結(jié)果）。 .q (1 v|u[BmA)*k  PzD ekyl
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, n 光場(chǎng)追跡模擬 iyf vcKO •切換到“第二代場(chǎng)追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為模擬引擎。 OuF%!~V •單擊Go！ jAb R[QR1% R<x~KJ1 1c  :H QQ8uQfb
J9*$@&@S 光場(chǎng)追跡結(jié)果（照相機(jī)探測(cè)器） BO)Q$*G~JD T4x %dg •上圖僅顯示Ex和Ey場(chǎng)分量的強(qiáng)度。 #Rcb
iV*M •下圖通過(guò)整合Ex、Ey和Ez分量顯示強(qiáng)度：由于高數(shù)值孔徑情況下相對(duì)較大的Ez分量，可以看到明顯的不對(duì)稱性。 _"0Bg3Y L L^WeD_Y  h#rziZ( DNl '}K1W 光場(chǎng)追跡結(jié)果（電磁場(chǎng)探測(cè)器） 6#/v:;bF #Z]l 4d3{T •通過(guò)使用電磁場(chǎng)探測(cè)器獲得所有電磁場(chǎng)分量。
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