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摘要 FQ^uX]<3j c~;.m<yrf 在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,晶片檢測系統(tǒng)用于檢查晶片上的缺陷并找到它們的位置。為保證微結(jié)構(gòu)的圖像解析度,檢測系統(tǒng)常使用一個高NA的物鏡,工作在紫外波長范圍。作為一個例子,模擬了一個完整的晶片檢測系統(tǒng),包括高NA聚焦效應(yīng)和光與微結(jié)構(gòu)的互作用,并演示了圖像的形成。 3qZ{yr2N[ |REU7?B 'iK*#b8l 建模任務(wù) Q"uu&JC B`Pi\1H6% 0C_Qp%
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