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摘要 4!/JN J c* {6T}VZr VirtualLab可以用于分析任意類型的光柵。由于在復(fù)雜光學(xué)設(shè)置中傾斜結(jié)構(gòu)的光柵越來越重要，所以軟件中也加入了傾斜光柵的模型。傾斜光柵建模為特殊的光學(xué)介質(zhì)，可以多樣化地定義其幾何形狀。此外，幾種高級(jí)規(guī)范選項(xiàng)也可以在軟件中實(shí)現(xiàn)，例如添加完整和部分涂層。這個(gè)用例解釋了可用的配置選項(xiàng)，并討論了它們對(duì)光柵幾何形狀的影響。 j,M$l mR')
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 t1FtYXv`/ j>\c > U 介質(zhì)目錄中的傾斜光柵介質(zhì) /MF
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 1INX#qTZ .11l(M 可以在VirtualLab內(nèi)嵌的介質(zhì)目錄中找到內(nèi)置傾斜光柵介質(zhì)。 1>J.kQR^ 可以使用它設(shè)置復(fù)雜的光學(xué)光柵結(jié)構(gòu)（所謂的堆棧）并運(yùn)用傅里葉模態(tài)法分析。 p R'J4~
,n/]ALz>~ 傾斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框 f ^$,; Qg *\aa94
 1B~O!']N< J/je/PC 傾斜光柵介質(zhì)提供了很多選項(xiàng)去自定義周期性結(jié)構(gòu)。 x0
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o]r 首先，需要在基本參數(shù)標(biāo)簽頁中定義光柵脊和谷的材料。 E]@&<TFq 這些材料既可從材料目錄中選取，也可通過折射率定義。 p;+O/'/j =} `d 傾斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框 +0pI}a\ ]RCo@Q W
 y(COB6r 4D?h }U / 在材料設(shè)置下方，可以定義光柵的幾何參數(shù)。 !mNst$-H4 有如下參數(shù)可選： C*Vm} |) ─ 占空比（相對(duì)于光柵的上面或者下面） ;k gP:n ─ Z方向擴(kuò)展（在z方向光柵的高度） * dB eb ─ 左傾斜角（光柵脊左側(cè)的傾斜角度） Q|(}rIWOQA ─ 右傾斜角（光柵脊右側(cè)的傾斜角度） &6x(%o| 如果傾斜角度相同，可以通過點(diǎn)擊（不）等號(hào)關(guān)聯(lián)角度設(shè)定。 <0CjEsAB] @nktD. 傾斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框 o :d 7IL ?@b6( f
xX 為了增加可配置的涂層，需要激活A(yù)pply Coating選項(xiàng)。 `|'w]rj:"+ 這樣，結(jié)構(gòu)示意圖中就出現(xiàn)了附加選項(xiàng)。 V\L;EHtc$
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 ,h*gd^i n7!T{+ge 傾斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框 $plk>Khg .|,LBc! 首先，選擇涂層的材料。 mf r aw2H 同樣的，可以從材料目錄中選擇或通過折射率定義材料。 >]h{[kU %4 然后，可以單獨(dú)設(shè)置涂層每個(gè)側(cè)面、上面、下面的厚度，如示意圖所示。 )CFJ Xc:
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 )4g_S ?l= 6FB 0g 8 傾斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框 -<g9 ) CV5 qed _
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