拋光常見(jiàn)疵病產(chǎn)生原因及克服方法 xh<{lZ)KJ
印跡 uF3{FYM{I
1)拋光模與鏡盤(pán)吻合不好出現(xiàn)油斑痕跡 HnFH|H<Uf
2)玻璃化學(xué)穩(wěn)定性不好 WC _U'nTu4
3)水珠、拋光液、口水沫等未及時(shí)擦拭干凈 ;#Qv
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克 服 方 法 (I;81h`1G
1)選用合適的拋光膠,修刮或?qū)Ω?聚胺脂)拋光模使之吻合 ">8oF.A^
2)拋光中產(chǎn)生的印跡可以選用適當(dāng)?shù)奶砑觿?而完工后產(chǎn)生的印跡可以保護(hù)漆 }h/ 7M
3）避免對(duì)著工件講話(huà),如下盤(pán)擦不干,應(yīng)擦凈,對(duì)化學(xué)穩(wěn)定性不好玻璃還應(yīng)烘干 O 1X)
光圈變形 gyy}-^`F
1)粘結(jié)膠粘結(jié)力不適 %< ;u
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2)光圈未穩(wěn)定既下盤(pán) ;InMgo,
3)剛性盤(pán)加工時(shí),剛盤(pán)使用時(shí)間較長(zhǎng)未檢測(cè)(沉孔臟或變形) A? jaS9 &)
4)剛性盤(pán)加工時(shí)被加工工件外圓偏大,上盤(pán)方法不當(dāng)?shù)?span style="display:none"> xi<}n#
克 服 方 法 6 W] C`
1)光圈變形主要發(fā)生在較薄的零件或不規(guī)則的零件,應(yīng)采用適當(dāng)?shù)纳媳P(pán)方法 afaQ b
2)應(yīng)按工件大小給予一定的光圈穩(wěn)定時(shí)間 {#@[ttw$U
3)剛盤(pán)定期進(jìn)行檢測(cè)和修正 dci,[TEGu
4）嚴(yán)格按工藝和上盤(pán)操作規(guī)程加工 K'Wv$[~Dc
麻點(diǎn)： S+eu3nMq
產(chǎn) 生 原 因 P A *U\
1) 精細(xì)磨、拋光時(shí)間不夠 Je^ ;[^
2) 精細(xì)磨面立不均勻或中間與邊緣相差大 L`Ys`7
3)有粗劃痕拋斷后的殘跡 %@aC5^Ovy+
4)方形或長(zhǎng)方形細(xì)磨后塌角 'tQp&p j
5)零件在鏡盤(pán)上由于加工造成走動(dòng)
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6) 精細(xì)磨面形誤差太大,尤其是偏高,易造成邊緣拋光不充分 E)p [^1WC
7) 拋光模加工時(shí)間過(guò)長(zhǎng)或拋光液使用時(shí)間長(zhǎng)而影響拋光效率 MR@Qn[RdM
克 服 方 法 nnu#rtvZp}
1) 精細(xì)磨應(yīng)除去上道粗砂眼, 拋光時(shí)間應(yīng)足夠 *U\`HUW
2) 精細(xì)磨光圈匹配得當(dāng),應(yīng)從邊緣向中間加工 0&kmP '
3)發(fā)現(xiàn)后應(yīng)作出標(biāo)識(shí)單獨(dú)擺放或重拋 >#T?]5Z'MF
4)用開(kāi)槽平模細(xì)模、添加砂要均勻 DtS7)/<T
5)選用適當(dāng)?shù)恼辰Y(jié)膠，控制工序溫度和鏡盤(pán)忽冷忽熱, 粘結(jié)膠厚度應(yīng)符合標(biāo)準(zhǔn) l]R7A_|
6)精細(xì)磨各道光圈匹配應(yīng)嚴(yán)格按工藝操作指導(dǎo)卡操作 n#?y;Y\
7)更換拋光皮及拋光液的各項(xiàng)指標(biāo)(比重、PH值等)周期性管理
