光譜學(xué)是一種無創(chuàng)性技術(shù)，是研究組織、等離子體和材料的最強(qiáng)大工具之一。 本文介紹了如何使用市售的
光學(xué)元件來實(shí)現(xiàn)透鏡-光柵-透鏡（LGL）
光譜儀。進(jìn)行光譜儀的設(shè)置，并對其設(shè)計進(jìn)行改進(jìn)和
優(yōu)化。（聯(lián)系我們獲取文章附件）
JM-spi o 簡介
:Rh?#yO 5 本文介紹如何使用市售的光學(xué)元件實(shí)現(xiàn)透鏡-光柵-透鏡（LGL）光譜儀，以及如何在像差和性能方面對其進(jìn)行優(yōu)化。本文基于文章 “如何構(gòu)建光譜儀——理論依據(jù)” 中所介紹的LGL光譜儀的基礎(chǔ)知識。
5U&b")3IT! LGL光譜儀的基本設(shè)計
WB2An7i@"{ 在設(shè)計和實(shí)現(xiàn)光譜儀時，必須了解一些先決條件，并且確定出初步使用的有關(guān)光學(xué)元件和平臺（文末提供了制造商網(wǎng)站的鏈接）。在本例中，我們研究了用于光學(xué)相干斷層掃描（OCT）的光譜儀：
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