近日，中科院上海光機所高功率激光元件技術(shù)與工程部和上海理工大學(xué)合作，在光學(xué)薄膜的超低吸收研制工藝研究中取得新進(jìn)展，制備得到了吸收損耗僅為1.4 ppm的高反射多層膜，相關(guān)研究成果以“Effect of ionic oxygen concentration on properties of SiO2 and Ta2O5monolayers deposited by ion beam sputtering”為題，發(fā)表于Optical Materials。 hD,xJ]zv1  
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隨著激光技術(shù)的發(fā)展，具有超低吸收損耗的激光薄膜對激光干涉引力波探測器等高精度光學(xué)系統(tǒng)至關(guān)重要。光學(xué)薄膜的吸收會影響元件的光學(xué)性能導(dǎo)致系統(tǒng)性能下降，此外吸收帶來的熱量沉積引起元件熱畸變會造成光束質(zhì)量的急劇惡化。薄膜沉積過程中的工藝參數(shù)會對薄膜材料的光學(xué)性能產(chǎn)生直接影響，但目前針對離子束濺射過程中離子氧參數(shù)對薄膜吸收損耗影響的研究還不夠充分。 }_Y\6fcd