對(duì)于光學(xué)表面的評(píng)價(jià)，可以有兩個(gè)重要指標(biāo)：表面面形和表面粗糙度。一般地，光學(xué)表面面形通過(guò)干涉儀來(lái)測(cè)量；而粗糙度一般采用光學(xué)輪廓儀或掃描探針顯微鏡測(cè)量。我們這里主要討論粗糙度的測(cè)量問(wèn)題。 UX-&/eScN  
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    對(duì)于小尺寸元件來(lái)說(shuō)，這些方法都是可行的。然而，對(duì)于大尺寸元件，比如口徑大于300mm或500mm甚至1m的元件，很多方法都受到了測(cè)量環(huán)境的限制。 ?1L
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    除粗糙度要求接近0.1nm RMS的表面外，一般光學(xué)表面都采用光學(xué)輪廓儀測(cè)量。這種方法比較直接，操作簡(jiǎn)單。但是在使用中，都要求在隔振平臺(tái)。這是由于這類儀器的原理導(dǎo)致的，雖然是近距離的測(cè)量，但是振動(dòng)會(huì)對(duì)這種納米級(jí)測(cè)量帶來(lái)噪聲誤差，從而導(dǎo)致測(cè)量失敗。 s,bERN7'yO  
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    光學(xué)輪廓儀對(duì)于振動(dòng)噪聲的要求，比普通干涉儀更苛刻，因?yàn)槠?span onclick="sendmsg('pw_ajax.php','action=relatetag&tagname=分辨率',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_7">分辨率要求在納米級(jí)。因而很難做出滿足要求的大尺寸的隔振平臺(tái)。這也限制了輪廓儀測(cè)量的元件的尺寸。因此，目前對(duì)于大尺寸的光學(xué)元件的粗糙度測(cè)量，一般無(wú)法直接測(cè)量。 ZnFi<@UB)  
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    動(dòng)態(tài)光學(xué)輪廓儀NanoCam Sq，就是在這種情況下出現(xiàn)的。 這臺(tái)設(shè)備在2011年的美國(guó)光博會(huì)上首次亮相。這臺(tái)設(shè)備主要解決了兩個(gè)測(cè)量難題：1）復(fù)雜現(xiàn)場(chǎng)環(huán)境下的粗糙度測(cè)量；2）大尺度鏡面的粗糙度測(cè)量。 |r ue=QZ  
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    原理： 經(jīng)典的顯微相移干涉原理（PSI），只是在同一時(shí)間獲得所有的相位信息。4D將他們的動(dòng)態(tài)相移干涉技術(shù)擴(kuò)展到了顯微干涉術(shù)，從而開發(fā)出了這種動(dòng)態(tài)光學(xué)輪廓儀。 %6Q4yk  
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