①DOME溫度過(guò)高，可以嘗試降低溫度。 /p [l(H  
②預(yù)清潔功率過(guò)大或時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，造成基板表面粗糙度增大引起發(fā)霧。 xrT_ro8  
③H4和MGF2鍍?cè)鐾改さ脑挘�可以溫度設(shè)定在300℃左右。

ouyuu:沒(méi)人覺(jué)得是散射嗎？ *A\NjXJl~  
問(wèn)題還在結(jié)晶上，試著調(diào)整一下鍍膜溫度和速率，還有充氧。 xdo{4XY^*W  
其實(shí)有離子源會(huì)更好些。 (2017-08-21 17:22)  H5RHA^p|  

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溫度、速率還有充氧具體要像哪個(gè)方向調(diào)節(jié)呢，比如說(shuō)沖多點(diǎn)氧還是少點(diǎn)

dcfcwdx:溫度、速率還有充氧具體要像哪個(gè)方向調(diào)節(jié)呢，比如說(shuō)沖多點(diǎn)氧還是少點(diǎn) (2018-08-30 13:27)  kx=AX*I  

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這個(gè)只有自己慢慢試。改變條件可以改變結(jié)晶大小，但是哪個(gè)更好要自己試的。

問(wèn)題弄好了嗎？

起霧有時(shí)候不一定是膜的問(wèn)題。玻璃基片洗不凈的情況下也有可能導(dǎo)致起霧，玻璃認(rèn)真清潔或者用手擦拭后鍍膜試一下。

鍍膜溫度過(guò)高，氧化鈦高溫下結(jié)晶發(fā)霧！

發(fā)蒙或者發(fā)霧可以從工藝和膜料入手排查原因，如果只鍍氟化鎂和H4的話，問(wèn)題應(yīng)該在H4上面

會(huì)不會(huì)溫度過(guò)高

還有你的基底材料是什么？加了離子源沒(méi)有？

膜外⽩霧 `5-#M/J  
現(xiàn)象：鍍膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩霧，⽤丙酮或混合液擦拭，會(huì)有越擦越嚴(yán)重的現(xiàn)象。 i8YgG0[)  
⽤氧化鈰粉擦拭，可以擦掉或減輕，（⼜稱：可擦拭壓克）
AfN   
分析：膜外⽩霧的成因較為復(fù)雜，可能的成因有： Z5Ihc%J^  
① 膜結(jié)構(gòu)問(wèn)題：外層膜的柱狀結(jié)構(gòu)松散，外層膜太粗糙； z4641q5'm  
② 蒸發(fā)⾓過(guò)⼤，膜結(jié)構(gòu)粗糙。 ~Ls I<
z  
③ 溫差：鏡⽚出罩時(shí)內(nèi)外溫差過(guò)⼤ @izi2ND  
④ 潮⽓；鏡⽚出罩后擺放環(huán)境的潮⽓ z8|9WZ:  
⑤ 真空室內(nèi)POLYCOLD解凍時(shí)⽔汽過(guò)重 WWcm(q=  
⑥ 蒸鍍中充氧不完全，膜結(jié)構(gòu)不均勻 [\9
(@Bx  
⑦ 膜與膜之間的應(yīng)⼒ eH955[fVd4  
改善思路：膜外⽩霧成因很多，但各有些特征，盡量對(duì)癥下藥。主要思路，⼀是把膜做的致密 %"Q!5
qH&  
光滑些不容易吸附，⼆是改善環(huán)境減少吸附的對(duì)象。 .p9h$z^  
改善對(duì)策： F[=lA"F^  
㈠ 改善膜系，外層加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善鏡⽚出罩時(shí)的環(huán)境（⼲燥、清 /JeqoM"x  
潔） R0mT/h2  
㈡ 降低出罩時(shí)的鏡⽚溫度（延長(zhǎng)在真空室的冷卻時(shí)間）減少溫差、降低應(yīng)⼒。 -Y=c g;  
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜結(jié)構(gòu)。 Zk#i9[g9*  
㈣ 適當(dāng)降低蒸發(fā)速率，改善柱狀結(jié)構(gòu) bM^A9BxD  
㈤ 離⼦輔助鍍膜，改善膜結(jié)構(gòu) 5?L:8kHsH  
㈥ 加上polycold解凍時(shí)的⼩充⽓閥（其功能是及時(shí)帶⾛⽔汽） 0~b6wuFl  
㈦ 從蒸發(fā)源和夾具上想辦法改善蒸發(fā)⾓。 Gu`Vk/&  
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。