| infotek | 2020-08-27 09:30 |
高NA物鏡聚焦的分析高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種鏡頭進行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。  建模任務(wù)  概觀  光線追跡仿真 •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 •點擊Go！ •獲得3D光線追跡結(jié)果。  光線追跡仿真 •然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為仿真引擎。 •單擊Go！ •結(jié)果，獲得點列圖（2D光線追跡結(jié)果）。  場追跡仿真 •切換到場追跡并選擇“第二代場追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為仿真引擎。 •單擊Go！ | |