| infotek | 2020-12-25 09:56 |
結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和導(dǎo)出加工數(shù)據(jù)1.在VirtualLab中如何進(jìn)行結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)； 2.在VirtualLab中如何導(dǎo)入和導(dǎo)出加工數(shù)據(jù)。 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) 1) 點(diǎn)擊  ，打開示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2  2) 該示例文件包含處處振幅為1的純粹的相位分布，默認(rèn)為振幅視圖. 點(diǎn)擊  ，將默認(rèn)的振幅視圖轉(zhuǎn)換為相位視圖，點(diǎn)擊“結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)(Structure Design)”開始設(shè)計(jì)可產(chǎn)生該相位分布的對應(yīng)結(jié)構(gòu)  3) 進(jìn)入(基于薄元近似)的純相位透射結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)系統(tǒng)窗口 目標(biāo)(Target)標(biāo)簽，可以選擇將設(shè)計(jì)好的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)元件放在新的LPD中還是已有的LPD中  光學(xué)設(shè)置(Optical Setup)標(biāo)簽，在此標(biāo)簽中選擇模式為透明板的高度輪廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可選擇基板介質(zhì)(Substrate Medium)和元件周圍的介質(zhì)(Surrounding Medium)，同時可以確定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波長（Wavelength）。  光學(xué)界面參數(shù)(Interface Parameters)標(biāo)簽，在相位展開模式(Unwrapping Mode)中選擇不展開(None)，以及不進(jìn)行強(qiáng)制分層(Enforce Quantization),即不產(chǎn)生離散界面，并選擇像素化的高度輪廓（最臨近點(diǎn)插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]對取樣光學(xué)界面進(jìn)行插值   導(dǎo)出加工數(shù)據(jù) 1) 在LPD中雙擊生成的元件，可見設(shè)計(jì)好的結(jié)構(gòu)是以雙界面元件(Double Interface Component，簡稱DIC)的形式保存的，而高度輪廓以取樣光學(xué)界面（Sampled interface）的形式保存，點(diǎn)擊編輯(Edit)  2) 進(jìn)入取樣光學(xué)界面的編輯(Edit Sampled Interface)窗口，在結(jié)構(gòu)(Structure)標(biāo)簽上，選擇臨近點(diǎn)插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法進(jìn)行高度輪廓插值，并進(jìn)行3D預(yù)覽  3) 在取樣光學(xué)界面預(yù)覽(Preview of Sampled Interface)中，點(diǎn)擊鼠標(biāo)右鍵，選擇精度(Accuracy)，將界面取樣精度設(shè)置為5，提高取樣光學(xué)界面的顯示精度   4) 進(jìn)入界面高度離散化(Height Discontinuities)標(biāo)簽，將離散高度階數(shù)(Discrete Height Levels)設(shè)置為8，通過工具(Tools)中的導(dǎo)出(Export)生成可用于光學(xué)界面加工的數(shù)據(jù)   5) 進(jìn)入光學(xué)界面數(shù)據(jù)導(dǎo)出窗口 在一般(General)標(biāo)簽進(jìn)行如下圖所示的設(shè)置  在輸出參數(shù)(Export Parameters)標(biāo)簽上選擇默認(rèn)參數(shù)設(shè)置  在GDSII/CIF標(biāo)簽上選擇默認(rèn)設(shè)置，并點(diǎn)擊Export導(dǎo)出加工數(shù)據(jù) | |