| cyqdesign |
2007-03-09 16:22 |
利用表面粗化技術提高發(fā)光二極管出光效率
GaN 基材料在光電器件中的應用，得到了越來越多人的關注。由于近來 GaN 基發(fā)光二極管的亮度取得了很大的提高，使得 GaN 基發(fā)光二極管在很多領域都取得了應用，例如交通信號燈、移動電話背光、汽車尾燈、短距離通信、光電計算機互聯等。但是由于非輻射缺陷的作用，使得 GaN 基發(fā)光二極管的內量子效率在室溫時，遠遠小于 100% 。此外，導致 GaN 基發(fā)光二極管外量子效率不高的原因很大程度上在于氮化物外延層和空氣的反射系數差異較大導致的全反射問題。根據報道， GaN 和空氣的反射系數分別是 2.5 和 1 。因此在 InGaN-GaN 活性區(qū)產生的光能夠傳播出去的臨界角約為 23° 。這大大限制了 GaN 基發(fā)光二極管的外量子效率 [1] 。很多人在提高 GaN 基發(fā)光二極管的出光效率方面都做了很多工作，方法也比較多。下面主要介紹一下利用表面粗化的辦法來提高器件的出光效率。 $U1'n@/J
i "xq SLf=
Huang 等人 [2] 利用激光輻照的方法在傳統(tǒng)的 IaGaN/GaN 發(fā)光二極管上部 p-GaN 表面形成納米級粗糙層。這里所說的傳統(tǒng)的 GaN 發(fā)光二極管的結構為： 560 ℃ 生長 30nm 厚的GaN 低溫緩沖層，一個 2μm 厚的未摻雜 GaN 層，一個在 1050 ℃ 生長的 1.5μm 厚的 n-GaN 層，一個包含 5 個循環(huán)的的 In 0.21 Ga 0.79 N 2nm /GaN 5nm 多量子井層，一個 0.3μm 厚的 p-GaN 層。并且采用表面粗化處理的器件和傳統(tǒng)器件采用相同的生長方法和步驟制備。經過表面粗化后， p-GaN 表面均方根粗糙度由 2.7nm 增加到了 13.2nm 。結果顯示，采用表面粗化處理的器件的在加上 20mA 電流時，亮度提高了 25% 。但是工作電壓從 3.55 降低到了 3.3V 。采用表面粗化處理的器件的系統(tǒng)電阻降低了 29% ，這是因為表面粗化后增加了接觸面積和經過激光輻照后，具有了更高的空穴濃度。 `1d
| |