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cyqdesign	2023-10-07 23:17
清華大學(xué)在超高感光度光刻膠研究取得重要進(jìn)展光刻膠是集成電路芯片大規(guī)模制造的關(guān)鍵材料，在技術(shù)發(fā)展到深紫外（DUV）、極紫外（EUV）光刻階段后，光刻膠對(duì)光源的敏感度不足，大大推高了光刻機(jī)及其配套光源的制造難度和成本。