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2010-01-30 21:38 |
真空鍍膜技術(shù),作者:張以忱
《真空鍍膜技術(shù)》共分10章,系統(tǒng)地闡述了真空鍍膜技術(shù)的基本慨念和基礎(chǔ)理論、各種薄膜制備技術(shù)、設(shè)備及工藝、真空卷繞鍍膜技術(shù)、ITO導(dǎo)電玻璃真空鍍膜工藝,尤其重點介紹了一些近年來新出現(xiàn)的鍍膜方法與技術(shù),如反應(yīng)磁控濺射鍍膜技術(shù)、中頻磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜技術(shù)等;還詳細(xì)介紹了薄膜沉積及膜厚的監(jiān)控與測量以及表面與薄膜分析檢測技術(shù)等方面的內(nèi)容。 aO]FQ#l2b 《真空鍍膜技術(shù)》具有很強的實用性,適合于真空鍍膜行業(yè)、薄膜與表面應(yīng)用、材料工程、應(yīng)用物理以及與真空鍍膜技術(shù)有關(guān)的行業(yè)從事研究、設(shè)計、設(shè)備生產(chǎn)操作與維護(hù)的技術(shù)人員,也適用與真空鍍膜技術(shù)相關(guān)的實驗研究人員和學(xué)生,還可用作大專院校相關(guān)專業(yè)師生的教材及參考書。 Z UCz-53 [attachment=24314] 7)y9%-} _6,Tb] 市場價:¥59.00 />E:}1}{ 優(yōu)惠價:¥43.70 為您節(jié)省:15.30元 (74折) qqR8E&Y{
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)`/`* _Bhm\|t 1 薄膜與表面技術(shù)基礎(chǔ)理論 5v@-.p 1.1 概述 |rg4j 1.2 固體表面介紹 (iw)C)t*u 1.2.1 固體材料 Z 71.* 1.2.2 固體表面與界面的基本概念 Q+]9Glz9 1.2.3 固體表面與界面的區(qū)別 I||4.YT 1.3 表面晶體學(xué) bRzw.(k0`r 1.3.1 金屬薄膜的晶體結(jié)構(gòu) PWw2;3`-6w 1.3.2 理想的表面結(jié)構(gòu) @<W^/D1#L 1.3.3 表面與體內(nèi)的差異 <h7FS90S 1.3.4 青潔表面結(jié)構(gòu) !^EdB}@yS 1.3.5 實際表面結(jié)構(gòu)
mtQlm5l 1.4 表面特征(熱)力學(xué) Ws>2S 1.4.1 表面力 $<N!2[I L 1.4.2 表面張力與表面自由能 Zg#VZg1
2 1.4.3 表面擴(kuò)散 3.^Tm+ C 1.5 表面電子學(xué) JM?X]l 1.5.1 金屬薄膜中的電遷移現(xiàn)象 LAT%k2%Wx 1.5.2 曾強薄膜抗電遷移能力的措施 @&G< Np` 1.6 界面與薄膜附著 ZXR#t?D 1.6.1 界面層 M
XX:i 1.6.2 附著及附著力 @h&crI[c 1.6.3 固體材料表面能對附著的影響 ].C4RH 1.6.4 表面、界面和薄膜的應(yīng)力 ;}BDEBl 1.6.5 增強薄膜附著力的方法 Ct)l0J\XH 1.7 金屬表面的腐蝕 ub* j&L=
1.7.1 電化學(xué)腐蝕 }j. [h;C6 1.7.2 金屬的鈍化 l5R0^!t 1.7.3 全面腐蝕 _CDl9pP36# 1.7.4 局部腐蝕 4tb y N +9[/> JM 2 真空蒸發(fā)鍍膜 jbU=D:| 2.1 概述 J"&jR7-9 2.2 真空蒸發(fā)鍍膜原理 ojA i2uz 2.2.1 真空蒸發(fā)鍍膜的物理過程 ief~*:5 2.2.2 蒸發(fā)過程中的真空條件 And|T 6u 2.2.3 鍍膜過程中的蒸發(fā)條件 |Qe#[Q7 2.2.4 殘余氣體對膜層的影響 =h<LlI^v 2.2.5 蒸氣粒子在基片上的沉積 ?pAO?5Z:} 2.3 蒸發(fā)源 Z.]=u(=a 2.3.1 電阻加熱式蒸發(fā)源 _FJ,, /~ 2.3.2 電子槍加熱蒸發(fā)源 /s\_"p 2.3.3 感應(yīng)加熱式蒸發(fā)源 mx'!I7b(L/ 2.3.4 空心熱陰極電子束蒸發(fā)源 .1&~@e%=- 2.3.5 激光加熱蒸發(fā)源 HaUfTQ8 2.3.6 電弧加熱蒸發(fā)源 0gEtEH+ 2.4 特殊蒸鍍技術(shù) M^E\L
C 2.4.1 閃蒸蒸鍍法 UY!N"[& 2:4.2 多蒸發(fā)源蒸鍍法 {4@+
2)l 2.4.3 反應(yīng)蒸鍍法 O"<W<l7Q 2.4.4 三溫度蒸鍍法 4%3R}-'mh
>Mzk;TM 3 真空濺射鍍膜
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