| knight627 |
2006-06-20 01:17 |
關于鍍膜產(chǎn)品超聲波清洗的問題
最近確定超聲波工藝條件,發(fā)現(xiàn)洗新光胚的時候能清洗干凈,半成品(2面鍍膜只鍍呢一面)也能洗干凈,但成品(2面均已鍍膜)卻很難洗干凈,主要是一些灰塵點,很難讓我理解.希望大家討論討論超聲波清洗成品的問題.我自己的見解是: Px$'(eMj^3 1.水質. (矛盾之出水質出問題,新光胚和半成品也應該洗不干凈) G1A$PR 2.鍍膜后,表面不光滑,影響超聲波清洗.(矛盾半成品沒問題) HoMQt3C 3.洗的成品膜層中含MGF2吸水后,水中雜質進入膜層,影響清洗.(矛盾半成品沒問題) )'w]YIv9 還有成品放置(不垂直放入清洗夾具)的問題以及最后烘干室熱風的問題,但由于新光胚和半成品沒問題很讓人郁悶. 2-p8rGI_F 請大家?guī)兔Ψ治龇治?是不是含MGF2的成品不能用超聲波清洗,現(xiàn)在上頭催的急,各位發(fā)表下看法,幫幫忙,靜侯佳音,以及各位有什么好的經(jīng)驗講講.
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