在做莫爾條紋ZEMAX仿真時，在光柵設計方面，光柵應該是有遮光的部分，當縫隙比較大時，光線應該一部分透過光柵一部分不能透過，成條紋狀。但在仿真時，設置不同的光柵常數(shù)，由于衍射，會改變分光角度的大小。但是無論光柵常數(shù)設置多少，光都會全部透過去，光柵不會擋住部分光線，如圖所示（我用的非序列，左邊是一根光線的分光情況，右邊是光線很多時經(jīng)過光柵后分光）。求問這是什么原因？或者有誰做過莫爾條紋的仿真，能否指導一下，萬分感謝！ $pPc}M[h e
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