我們都知道在LightTools中有正向追跡和反向追跡，其中正向追跡屬于全局分析（即查看系統(tǒng)整體模擬結(jié)果），而反向追跡屬于局部分析（即可以查看接收器上某一點或某一區(qū)域模擬結(jié)果）。如果我們要分析目標(biāo)接收器上某一個區(qū)域的具體能量分布情況時，那么反向追跡是很好的模擬辦法，但是如果我們還想查看造成這個區(qū)域能量分布是如何形成的（即形成的光路是什么）？這時使用反向追跡來查看就比較麻煩了，因為反向追跡所顯示的光線都是隨機(jī)產(chǎn)生的，如果你要查看產(chǎn)生該區(qū)域能量的光線路徑，那么你就需要讓反向追跡顯示大量光線，顯示了還不一定能看清楚（因為光線太多可能會干擾視線）。為了解決這種問題，LightTools 8.1版本新增加了局部分析功能，這個功能提供一個簡單而快速的方法來幫助我們分析這類問題。那么此次簡報我們就來學(xué)習(xí)如何使用該功能。

如下圖所示，我們這個例子比較簡單，使用一顆LED光源和一個接收器。LED光源的具體構(gòu)造由LED芯片，反光碗，電極線，外透鏡組成，模擬完成后在接收器上可以看到該LED的整體照度能量分布。

圖1.LED模型

查看照度能量分布結(jié)果，在菜單欄依次選擇Analysis>Illuminance Display>LumViewer ，這時我們可以清楚的看到在這個能量環(huán)的正下方有一個凹陷區(qū)域，這個凹陷區(qū)域是怎么形成的？我們?nèi)绾尾檎页鏊�形成的原因呢？這時我們就可以使用局部分析功能來檢查該凹陷區(qū)域形成的原因。

圖2.照度模擬圖