GaN材料的發(fā)展
應(yīng)用于藍(lán)、綠光發(fā)光二極管的材料,早期主要是ZnSe及GaN。因為ZnSe有可靠度的問題,因此才讓GaN有更大的發(fā)展空間。
應(yīng)用于藍(lán)、綠光發(fā)光二極管的材料,早期主要是ZnSe及GaN。因為ZnSe有可靠度的問題,因此才讓GaN有更大的發(fā)展空間。只是早期GaN的研究遲遲未能獲得明顯的進(jìn)展,主要是因為一直無法查找與GaN晶格常量相匹配的基板,造成磊晶中缺陷集成度過高,因此發(fā)光效能始終無法提升。另一個造成GaN無法獲得突破的原因在于器件的P-GaN部分生成不易,不但P-GaN的摻雜(doping)過低,而且其空穴的移動率(mobility)也較低。這樣,一直到1983年日本的田貞史(S.Yoshida)等人在藍(lán)寶石(Sapphire)基板上先用高溫成長氮化鋁(AlN)當(dāng)作緩沖層,然后生成出的GaN才獲得較佳的結(jié)晶,之后名古屋大學(xué)的赤崎勇教授(I.Akasaki)等人利用MOCVD在低溫下(600oC)先成長AlN緩沖層,而得到其上方在高溫成長后如鏡面般的GaN。1991年日亞公司(NichiaCo.)的研究員中村修二(S.Nakamura)利用低溫成長GaN的非結(jié)晶緩沖層,再以高溫成長得到同為鏡面般的GaN,此時磊晶部分的問題已經(jīng)獲得重大的突破。另一方面,1989年赤崎勇教授利用電子束照射鎂(Mg)摻雜的P-GaN,可得到明顯的P型GaN,之后日亞公司的中村修二又直接利用700℃的熱退火完成P型GaN的制作,至此困擾GaN發(fā)展的兩個重大問題終獲得突破。 1993年,日亞公司利用上面的兩項研究,成功開發(fā)出可發(fā)出一燭光(Candela)的GaN藍(lán)光發(fā)光二極管,其壽命達(dá)數(shù)萬小時。而后綠光發(fā)光二極管、藍(lán)、綠光二極管激光陸續(xù)被開發(fā)出來。 |

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