概述

這篇文章講述了如何在使用制冷探測(cè)的近紅外系統(tǒng)中分析冷反射效應(yīng)。主要包括：

• 使用OpticStudio的鬼像生成器生成并加載鬼像文件，收集每個(gè)文件內(nèi)包含的漸暈和透過率的數(shù)據(jù)
• 根據(jù)用戶輸入的溫度數(shù)據(jù)(封裝、探測(cè)器、環(huán)境)計(jì)算冷反射積分系數(shù)
• 宏程序?qū)⑤敵龈鞅砻鍺ITD貢獻(xiàn)以及總NITD結(jié)果
• 所有NITD數(shù)值數(shù)據(jù)將保存為一個(gè)文本

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http://customers.zemax.com/support/knowledgebase/Knowledgebase-Attachments/Zemax-Narcissus-Analysis-Macro/Zemax-Narcissus-Files.aspx

介紹

冷反射效應(yīng)是制冷探測(cè)的近紅外系統(tǒng)中，眾所周知的一種效應(yīng)。在該系統(tǒng)中，探測(cè)器為了達(dá)到較好的成像質(zhì)量會(huì)冷卻到非常低的溫度。因此在機(jī)械結(jié)構(gòu)和探測(cè)器之間便產(chǎn)生了很大的溫差。由于鏡片上的增透膜不會(huì)完全消除反射光，在系統(tǒng)的每個(gè)表面之間會(huì)殘留部分冷反射。并且機(jī)械結(jié)構(gòu)產(chǎn)生的熱輻射也會(huì)到達(dá)探測(cè)器。如果鏡頭在進(jìn)行光學(xué)設(shè)計(jì)時(shí)不考慮這些因素，在像面上很有可能會(huì)看到由冷反射造成的明顯的對(duì)比度差異。對(duì)于機(jī)械結(jié)構(gòu)溫度恒定且鏡片的相對(duì)位置固定的系統(tǒng)來說，可以采用電子控制式的非均勻矯正算法消除。但是由于環(huán)境溫度改變而導(dǎo)致機(jī)械結(jié)構(gòu)溫度的變化，或者透鏡系統(tǒng)需要移動(dòng)進(jìn)行重新對(duì)焦來補(bǔ)償機(jī)械結(jié)構(gòu)的熱膨脹時(shí)，都會(huì)導(dǎo)致冷反射再次出現(xiàn)。因此，在設(shè)計(jì)使用制冷探測(cè)的近紅外系統(tǒng)的過程中進(jìn)行冷反射分析是非常重要的。本文附件中提供的宏程序是用來計(jì)算制冷紅外探測(cè)系統(tǒng)中冷反射導(dǎo)致的溫度差異(NITD)特性。宏程序的計(jì)算基于如下冷反射公式(1,2)：