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  • 大陸中微半導(dǎo)體欲沖出亞洲走向世界

    作者:佚名 來源:網(wǎng)絡(luò) 時間:2011-02-20 10:15 閱讀:1706 [投稿]
    克服了公司發(fā)展道路上的幾個主要障礙之后,大陸中微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司(AMEC)終于走上了新的成長路程,中微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司主要的產(chǎn)品是半導(dǎo)體制造用蝕刻設(shè)備以及HPCVD高壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備。
    克服了公司發(fā)展道路上的幾個主要障礙之后,大陸中微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司(AMEC)終于走上了新的成長路程,中微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司主要的產(chǎn)品是半導(dǎo)體制造用蝕刻設(shè)備以及HPCVD高壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備。他們現(xiàn)在開始尋求在亞洲以外地區(qū)的發(fā)展空間,不僅如此,公司也對設(shè)備的產(chǎn)能進行了擴充,并計劃擴增一條 新的設(shè)備產(chǎn)線,以進一步鞏固其在蝕刻設(shè)備領(lǐng)域的地位。公司還準(zhǔn)備在不久的將來首次發(fā)行股票。
     
    中微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司總部位于上海,目前為止這家公司已經(jīng)售出了20臺半導(dǎo)體生產(chǎn)用設(shè)備。不過AMEC公司的副總裁Frank Masciocchi則拒絕透露其客戶的名單,僅稱其客戶已經(jīng)進入“第二輪”成長期,并稱“我們已經(jīng)不再是初涉市場的新興公司”。據(jù)觀察家猜測,公司的客戶名單中很可能包含有Globalfoundries等知名廠商。

    中微半導(dǎo)體設(shè)備公司成立于2004年,2007年,這家公司先后推出了反應(yīng)離子刻蝕機和高壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備(HPCVD)作為自己的第一作,公司希望加入與老牌設(shè)備廠商如應(yīng)用材料公司/日立公司/TEL公司/泛林公司(Lam)的競爭行列。

    2006年以后,中微先后成功從包括三星風(fēng)險投資公司,高通等在內(nèi)的多家公司/投資機構(gòu)獲得了巨額注資。不過,中微的發(fā)展歷程并非一帆風(fēng)順,2007年10月,老牌半導(dǎo)體設(shè)備廠商應(yīng)用材料公司一紙訴狀將AMEC告上了美國加州北區(qū)法庭,指控AMEC非法盜用商業(yè)機密,違反合約及不正當(dāng)競爭,指控的矛頭甚至指向了AMEC的CEO 尹志堯。尹志堯1991年至2004年間曾在應(yīng)用半導(dǎo)體公司擔(dān)任多種職位,如蝕刻產(chǎn)品集團的總經(jīng)理等。

    2009年,AMEC在非法盜用商業(yè)機密案的審理過程中獲得了有利的結(jié)案判決,2010年,兩家公司就這起官司達成和解。

    上個月,AMEC宣稱自己又迎來了一場官司的勝利。這場官司是由美國泛林公司在臺灣法院提起的,訴狀宣稱AMEC銷往臺灣的蝕刻設(shè)備侵犯了泛林的技術(shù)專利,最后這項上訴遭到臺灣法院的駁回,而且臺灣智慧財產(chǎn)局(TIPO)也最終站在了AMEC的一邊。

    現(xiàn)在AMEC終于重振市場名聲,而盡管因受到訴訟案的干擾,公司依然在市場拓展方面取得了一些成效,其成效主要在蝕刻產(chǎn)品方面。公司生產(chǎn)的300mm Primo D-RIE系統(tǒng)(去耦反應(yīng)離子刻蝕)基于雙工作站,小批量造型集群(mini-batch cluster,mini-batch指每批生產(chǎn)的晶圓不超過十片)架構(gòu),為單芯片生產(chǎn)系統(tǒng),裝備甚高頻去耦反應(yīng)離子刻蝕源。這套設(shè)備主要用于蝕刻硬質(zhì)掩膜(Hardmask),側(cè)壁(spacer),雙大馬士革過孔( dual damascene via)以及溝槽(trench)等結(jié)構(gòu)的蝕刻成型,可適用于65nm以上等級的芯片生產(chǎn)。AMEC自稱這套設(shè)備的產(chǎn)出能力比競爭對手的系統(tǒng)高出35%左右,而使用成本則比對手低35%。

    大部分AMEC生產(chǎn)的設(shè)備是銷往中國大陸,新加坡以及臺灣地區(qū),而現(xiàn)在公司開始向歐洲和美國地區(qū)拓展業(yè)務(wù)。

    AMEC公司生產(chǎn)的設(shè)備主要活躍在電介質(zhì)蝕刻生產(chǎn)領(lǐng)域,他們初期生產(chǎn)的設(shè)備基本被用于半導(dǎo)體器件中非關(guān)鍵層的蝕刻成型,不過AMEC的新目標(biāo)是將其蝕刻工具應(yīng)用的目標(biāo)推廣到半導(dǎo)體器件中更為關(guān)鍵的層結(jié)構(gòu)的蝕刻中去,同時努力進入新興的TSV穿硅互聯(lián)技術(shù)用生產(chǎn)設(shè)備市場。

    另外,公司還開發(fā)了代號為A-RIE的新設(shè)備,目前這款設(shè)備的細(xì)節(jié)未知,不過AMEC稱設(shè)備的產(chǎn)出量相比D-RIE將實現(xiàn)倍增。到今年10月份,AMEC將具備年產(chǎn)170臺設(shè)備的能力。
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