（二）納米光子學(xué)基礎(chǔ)與應(yīng)用——王欽華，教授，蘇州大學(xué)

1. 納米光子學(xué)基礎(chǔ)與進(jìn)展

2. 顯示技術(shù)/結(jié)構(gòu)色與納米結(jié)構(gòu)

3. 高/超分辨率平面成像技術(shù)

4. 超材料（metamaterials）與光場(chǎng)（電磁波）調(diào)控

5. 柔性光電子與可穿戴器件

6. 納米制造與超衍射極限光刻技術(shù)

7. 納米光子技術(shù)的機(jī)遇與挑戰(zhàn)

（三）III族氮化物半導(dǎo)體材料及其在光電領(lǐng)域的應(yīng)用進(jìn)展——徐科，研究員，蘇州納米所

1. 光電材料及III族氮化物的基本性質(zhì) 

2. III族氮化物半導(dǎo)體材料的應(yīng)用進(jìn)展 

3. 氮化鎵材料的生長(zhǎng)制備技術(shù) 

4. 第三代半導(dǎo)體在蘇州的發(fā)展現(xiàn)狀 

5. 總結(jié)與展望

（四）微納結(jié)構(gòu)分析和表征——蘇旭軍，研究員，中科院蘇州納米所

1. 電子光學(xué)基礎(chǔ)理論

(1) 電磁透鏡與阿貝成像原理

(2) 波動(dòng)光學(xué)基礎(chǔ)

(3) 波動(dòng)力學(xué)基礎(chǔ)

2. FIB和TEM技術(shù)及其在半導(dǎo)體分析中的應(yīng)用

(1) 透射電子顯微術(shù)（S/TEM）及其應(yīng)用

(2) 聚焦離子束（FIB)雙束電鏡及其應(yīng)用

(3) S/TEM-FIB在半導(dǎo)體材料、器件及失效分析中應(yīng)用

（五）光刻技術(shù)與應(yīng)用——浦東林，研究員，蘇州大學(xué)

1. 微納制造技術(shù)概況與光刻

2. 激光直寫光刻技術(shù)及本學(xué)院成果

3. 直寫光刻的應(yīng)用與本學(xué)院成果

4. 直寫光刻技術(shù)發(fā)展與應(yīng)用展望

（六）3D顯示及關(guān)鍵技術(shù)——喬文，教授，蘇州大學(xué)

1. 近眼3D顯示技術(shù)

(1) VR近眼顯示

(2) AR近眼顯示

2. 遠(yuǎn)屏3D顯示技術(shù)

(1) 眼鏡式

(2) 裸眼3D顯示

(3) 體三維顯示

(4) 全息顯示

3. 納米光場(chǎng)光刻、激光直寫、微納3D打印在3D顯示中的解決方案

4. 衍射波導(dǎo)HUD的研究與探討