對(duì)于如圖 2 所示的紅外系統(tǒng)，面數(shù)較多，且為大功率光學(xué)系統(tǒng)，因而多次反射形成的鬼像對(duì)系統(tǒng)的影響仍可能很大。進(jìn)行分析時(shí)，首先輸入系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)參數(shù)，并假設(shè)各透射光學(xué)表面透射率與反射率分別為 0.95 和 0.05；然后進(jìn)行近軸分析，結(jié)果如圖 3 所示。在這里，我們假設(shè)入射光強(qiáng)為2000，追跡終止的能流密度邊界值為 1E-5, 按產(chǎn)生的鬼像能量大小排序，列出了能量最大的前 10 個(gè)鬼像，其位置，發(fā)散角，能流密度等數(shù)值都可從相應(yīng)的列顯示出來(lái)。例如，第一行，表示能量最大的一個(gè)鬼像點(diǎn)，其值（Ghostillum）為 4.247108e+02，該鬼像位于第六面與第七面之間，距第七面距離（Distance）為 9.365138e+01，發(fā)散角(u)為：-2.654831e-01，等等。

圖3.對(duì)紅外系統(tǒng)鬼像的近軸分析結(jié)果

由上述近軸分析結(jié)果，我們可以得知，該紅外系統(tǒng)影響最大的幾個(gè)鬼像大小及位置；接著， 我們可以對(duì)最大的幾個(gè)鬼像分別進(jìn)行實(shí)際光線追跡，列出這些面上的鬼像分布情況。如圖4，為第7面上產(chǎn)生的鬼像情況，顏色越深表示能量越大。然后就可以采取相應(yīng)的措施，如增加傾斜板等方法，使這些鬼像的位置遠(yuǎn)離易損光學(xué)元件或大幅度減小其能量值，從而達(dá)到最終消除鬼像對(duì)系統(tǒng)造成的破壞性影響。

圖4.考察的紅外系統(tǒng)第七面上鬼像分布情況

4 結(jié)論

將常用的商業(yè)光學(xué)設(shè)計(jì)軟件的近軸分析結(jié)果與本軟件的近軸分析結(jié)果作了比較，結(jié)果完全一致。并采用將系統(tǒng)展開(kāi)的方式，即將反射面視為透射面的方法，來(lái)檢驗(yàn)實(shí)際光線追跡得出的高階鬼像數(shù)據(jù)，其結(jié)果也是一致的。因而，運(yùn)用我們編寫(xiě)的紅外光學(xué)系統(tǒng)雜散光分析軟件來(lái)進(jìn)行鬼像分析是可靠而且實(shí)用的，可以為實(shí)際的系統(tǒng)設(shè)計(jì)提供了強(qiáng)有力的數(shù)據(jù)支持。