超黑納米鍍膜:新一代吸光消光技術(shù)
采用獨特的綠色環(huán)保高真空沉積工藝,在幾乎任何基材的光學(xué)零件表面制備微米級的性能優(yōu)良的超黑納米涂層,總半球反射率可以低至0.5%以下,對入射光的吸收率超過99.5%,擁有最佳的廣譜吸光消光效果。
傳統(tǒng)黑色吸光消光技術(shù) 在所有光學(xué)成像、探測、傳感或顯示的儀器或元件中,雜散光的消除,以及光學(xué)噪音的降低,對提高產(chǎn)品的質(zhì)量、獲取精準(zhǔn)的數(shù)據(jù)等具有重要意義。傳統(tǒng)黑色消光表面處理工藝,包括噴涂黑色涂料、黑色陽極氧化、電泳電鍍、化學(xué)發(fā)黑等,這些傳統(tǒng)工藝伴隨著光學(xué)行業(yè)的發(fā)展已經(jīng)得到了廣泛的應(yīng)用,在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。 ![]() 但隨著現(xiàn)代精密光電元件和儀器在各個行業(yè)的應(yīng)用越來越深入,市場對產(chǎn)品品質(zhì)和精度的要求越來越高,傳統(tǒng)消光工藝的缺點日益暴露,已無法滿足產(chǎn)品和市場的要求。 首先,傳統(tǒng)工藝在可見光波段反射率太高,普遍在10%以上,紅外波段反射率更高,無法有效消除雜散光對光學(xué)系統(tǒng)的影響; 其次,傳統(tǒng)工藝精度差、且可靠性不足; 第三,傳統(tǒng)工藝適用的基材種類也有局限,產(chǎn)品選材因此受到限制; 第四,傳統(tǒng)工藝都是有污染排放不環(huán)保的工藝。 以上這些缺點極大地制約了產(chǎn)品質(zhì)量的提升,也越來越無法滿足當(dāng)今市場的要求。在這種背景下,全新的高科技、高精度、高品質(zhì)和超高吸收率的吸光消光技術(shù)的開發(fā)就非常迫切并具有重要意義 新一代技術(shù):超黑納米鍍膜 超黑寬波段吸光消光納米鍍膜技術(shù),是深圳市精石納米技術(shù)有限在國內(nèi)率先推出的最新科技,是新一代工業(yè)化的吸光消光技術(shù)。該技術(shù)采用獨特的綠色環(huán)保高真空沉積工藝,在幾乎任何基材的光學(xué)零件表面制備微米級的性能優(yōu)良的超黑納米涂層,總半球反射率可以低至0.5%以下,對入射光的吸收率超過99.5%,擁有最佳的廣譜吸光消光效果,達(dá)到了國際先進(jìn)水平,成功實現(xiàn)國產(chǎn)替代,也解決和突破了關(guān)鍵技術(shù)的卡脖子難題,有著非常重要的技術(shù)、經(jīng)濟(jì)和社會價值。 超黑納米鍍膜是在高真空環(huán)境下,控制特殊恰當(dāng)?shù)姆肿踊鶊F(tuán),在活性材料表面分子層沉積并生長制備出幾百至幾千納米厚度的薄膜材料。該微米級的薄膜層可以將從紫外、到可見、再到紅外的全波段入射光線以可控的吸收率全部吸收而不反射,從而根據(jù)吸收率的不同形成各種黑色外觀: 黑色:半球反射率4%,吸收率96%, 深黑:半球反射率<3%,吸收率97.5%, 超黑:半球反射率<1%,吸收率99.5%。 超黑納米鍍膜的基本特點: 1、高真空高能量制備,結(jié)合力好,低溫沉積; 2、高精密度,厚度只有幾百納米至幾千納米; 3、純無機材料,可以在-350至380°C高低溫下工作; 4、無任何雜質(zhì)顆粒或揮發(fā)物產(chǎn)生,穩(wěn)定可靠,耐候性好; 5、可鍍制在金屬、塑料、玻璃、陶瓷等任何材料表面; 6、可鍍制在平面或立體零件上,也可以鍍制在柔性薄膜表面; 7、純環(huán)保綠色技術(shù),無任何污染物產(chǎn)生。 |

1.行業(yè)新聞、市場分析。 2.新品新技術(shù)(最新研發(fā)出來的產(chǎn)品技術(shù)介紹,包括產(chǎn)品性能參數(shù)、作用、應(yīng)用領(lǐng)域及圖片); 3.解決方案/專業(yè)論文(針對問題及需求,提出一個解決問題的執(zhí)行方案); 4.技術(shù)文章、白皮書,光學(xué)軟件運用技術(shù)(光電行業(yè)內(nèi)技術(shù)文檔);
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