時間地點

主辦單位：訊技光電科技（上海）有限公司（微信公眾號：infotek）；蘇州黌論教育咨詢有限公司（微信公眾號：honglun-seminary）

授課時間：2024年12月4 (三）-6（五）共3天  AM 9:00-PM 16:00

授課地點：上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號中暨大廈18樓1805室

課程講師：訊技光電高級工程師&資深顧問

課程費用：4800RMB(課程包含課程材料費、開票稅金、午餐)

特邀專家介紹

易葵：中國科學院上海光機所正高級工程師，主要從事光學薄膜設計、制備工藝和測試相關方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空間激光薄膜、X射線多層膜、真空鍍膜技術與薄膜制備工藝研究等方面有較為深入的研究。獲得國家技術發(fā)明獎二等獎、上海市技術發(fā)明獎一等獎、上海市科技進步二等獎、軍隊科技進步二等獎等獎項，入選2014年度中科院“現有關鍵技術人才”。

課程簡介

隨著現代科技的飛速發(fā)展，光學薄膜的應用越來越廣泛。光學薄膜的發(fā)展極大地促進了現代光學儀器性能的提高，其種類非常廣泛，如增透膜，高反膜，分光膜，濾光片等，光學薄膜器件如今已經廣泛應用到光通信技術、光伏產業(yè)技術、激光技術、光刻技術、航空航天技術等諸多領域。

本次課程第一天主要為國際知名的光學薄膜分析軟件Essential Macleod的使用，第二天為各種類型的光學薄膜的設計模擬方法，前兩天主講人為訊技光電高級工程師，第三天特別邀請上海光學精密機械研究所專家易葵，分享光學薄膜制備工藝、激光薄膜關鍵技術以及光學薄膜的測量方法等相關內容。

課程大綱

1. Essential Macleod軟件介紹

1.1 介紹軟件

1.2 創(chuàng)建一個簡單的設計

1.3 繪圖和制表來表示性能

1.4 通過剪貼板和文件導入導出數據

1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann）

1.6 特定設計的公式技術

1.7 交互式繪圖

2. 光學薄膜理論基礎

2.1 垂直入射時的界面和薄膜特性計算

2.2 后表面對光學薄膜特性的影響

3. 材料管理

3.1 材料模型

3.2 介質薄膜光學常數的提取

3.3 金屬薄膜光學常數的提取

3.4 基板光學常數的提取

4. 光學薄膜設計優(yōu)化方法

4.1 參考波長與g

4.2 四分之一規(guī)則

4.3 導納與導納圖

4.4 斜入射光學導納

4.5 光學薄膜設計的進展

4.6 Macleod軟件的設計與優(yōu)化功能

4.6.1 優(yōu)化目標設置

4.6.2 優(yōu)化方法（單一優(yōu)化，合成優(yōu)化，模擬退火法，共軛梯度法，準牛頓法，針形優(yōu)化，差分演化法）

4.6.3 膜層鎖定和鏈接

5. 光學薄膜系統(tǒng)設計與分析案例與應用

5.1 減反射薄膜

5.2 分光膜

5.3 高反射膜

5.4 干涉截止濾光片

5.5 窄帶濾光片

5.6 負濾光片

5.7 非均勻膜與Rugate濾光片

5.8 仿生蛾眼/復眼結構

5.9 顏色膜

5.10 Vstack薄膜設計示例

5.11 Stack應用范例說明

6. 薄膜性能分析

6.1 電場分布

6.2 公差與靈敏度分析

6.3 反演工程

6.4 均勻性，摻雜/孔隙材料仿真

7. 真空技術

7.1 常用真空泵介紹

7.2 真空密封和檢漏

8. 薄膜制備技術

8.1 常見薄膜制備技術

9. 薄膜制備工藝

9.1 薄膜制備工藝因素

9.2 薄膜均勻性修正技術

9.3 光學薄膜監(jiān)控技術

10. 激光薄膜

10.1 薄膜的損傷問題

10.2 激光薄膜的制備流程

10.3 激光薄膜的制備技術

11. 光學薄膜特性測量

11.1 薄膜光譜測量

11.2 薄膜光學常數測量

11.3 薄膜應力測量

11.4 薄膜損傷測量

11.5 薄膜形貌、結構與組分分析

報名方式

本次課程針對所有對薄膜有興趣的人員，不需要任何光學軟件基礎，如確認報名，請?zhí)顚憟竺�表，并傳真�?21-64860709或郵件 course@infotek.com.cn; course@infocrops.com 至訊技/訊稷課程小組

掃描二維碼在線填寫報名表，工作人員會在收到報名信息的第一時間電話聯系確認相關信息。

表單報名如出現異常，請聯系工作人員18971148505（微信同號）