清華大學(xué)精密儀器系尤政課題組、材料學(xué)院劉鍇課題組、物理系魏洋課題組，與美國伯克利加州大學(xué)吳軍橋課題組、姚杰課題組、科斯塔斯·格里戈羅普洛斯（Costas P. Grigoropoulos）課題組合作，在材料學(xué)國際知名期刊《先進(jìn)材料》（Advanced Materials）上發(fā)表題為《非光刻和現(xiàn)場編程的光子超畫布》（A Lithography-Free and Field-Programmable Photonic Metacanvas）的研究論文，提出了一種新型的可重構(gòu)光學(xué)平臺——超畫布。該論文被《先進(jìn)材料》雜志選為該期的內(nèi)封底（Inside Back Cover）文章。 jPjFp35;zb  
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傳統(tǒng)光學(xué)器件的技術(shù)參數(shù)與功能是固定的，這給光學(xué)器件與光學(xué)系統(tǒng)的實(shí)際應(yīng)用帶來了諸多不便。如果能夠在現(xiàn)場調(diào)節(jié)光學(xué)器件的技術(shù)參數(shù)或功能，就可以大幅提升光學(xué)系統(tǒng)的工作性能。因此，可重構(gòu)光學(xué)器件成為了近年來光學(xué)領(lǐng)域的研究焦點(diǎn)。 5ma*&Q8+  
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為了實(shí)現(xiàn)上述目的，清華大學(xué)和伯克利加州大學(xué)的研究人員創(chuàng)造性地提出使用相變材料二氧化釩，構(gòu)建新型全固態(tài)的可重構(gòu)光學(xué)平臺“超畫布”的方法。借助二氧化釩薄膜的相變熱滯回線，研究人員可以在超畫布上實(shí)現(xiàn)幾乎任意光學(xué)元件的快速寫入與無痕擦除。光學(xué)元件的寫入由低功率（約1 mW）的連續(xù)激光和三維移動(dòng)平臺完成，整個(gè)過程中超畫布的溫度可以保持在90 ℃以下。光學(xué)元件的擦除依靠降低超畫布的溫度實(shí)現(xiàn)，最快僅需約1秒就可以完全擦除超畫布上所有的光學(xué)元件或圖案。 G2{.Ew  
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