所謂真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。在真空條件下成膜可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對(duì)于蒸發(fā)源與基板距離較遠(yuǎn)和薄膜質(zhì)量要求很高的場合，則要求壓力更低。

簡單易懂了些

樓主辛苦了 謝謝

小兒科

我下了，謝謝！!！

呵呵。。真空鍍膜不應(yīng)該只是蒸鍍，濺鍍也是真空鍍膜啦！！！

......當(dāng)作了解

了解一點(diǎn)基礎(chǔ)知識(shí)也不錯(cuò),謝謝

多謝，最好詳細(xì)一點(diǎn)

歸納的非常好