Simulator是Essential Macleod的新增功能, 可以幫助我們回答這個(gè)問題。
*g_w I%l 光學(xué)薄膜中的
公差評(píng)定是個(gè)實(shí)際問題。沒有一個(gè)好的、通用的分析技術(shù)。Essential Macleod里的一個(gè)簡單工具-Errors, 假定所有膜層中的厚度誤差都是隨機(jī)的,能夠顯示在許多薄膜中獨(dú)立控制命令不可能精確,而用其它的方法確實(shí)能夠構(gòu)造這些薄膜。實(shí)事上,公差和誤差的影響很大程度上依賴于控制技術(shù)。通過將誤差的Monte Carlo近似擴(kuò)展到控制過程的實(shí)際
模型中去,Simulator解決了公差問題。
Qs l80~n_7 :3^dF}> 使用由Runsheet創(chuàng)建的控制設(shè)計(jì), Simulator模擬沉積的控制,同時(shí)引入隨機(jī)和
系統(tǒng)效應(yīng),如信號(hào)中的噪聲,加工因素的不同,
材料密度誤差等等,并且顯示這些
參數(shù)對(duì)最后
模擬的薄膜產(chǎn)品的影響。
q>-R3HB ZVL
gK}s Simulator比簡單的監(jiān)控問題回答得更多。所有與薄膜系統(tǒng)有關(guān)的其它的參數(shù)都可以轉(zhuǎn)換成檢查模擬和它們影響的參數(shù)。Simulator的結(jié)果顯示,在沒有改變系統(tǒng)中噪聲或
精度時(shí),某一膜層的監(jiān)控過程中的一個(gè)小小改變,對(duì)DWDM應(yīng)用的多腔分束器的設(shè)計(jì)中,能否引起實(shí)質(zhì)性的改進(jìn)。
u]E.iXp pDn&V( g*y/j] 注:要Simulator操作正確,Runsheet提高必須也存在。
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