摘要 )7<JGzBZ1 b7E= u0 VirtualLab可用于分析任意
光柵類型。斜光柵在復雜
光學系統(tǒng)中已經(jīng)可以實現(xiàn),并且其重要性在提高。斜光柵通過特殊光學介質(zhì)實現(xiàn),以此定義其一般性的幾何
結構。而且,幾個高級規(guī)格選項可用,例如,添加一個完整和部分涂層。這個案例解釋了配置的可用選項,并且討論了其對光柵結構的影響。
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B=%cXW, \m1r(*Ar 介質(zhì)目錄中的斜光柵介質(zhì) *LOpbf BB-E"<
V.Dqbv ,)hUL/r6 內(nèi)置斜光柵介質(zhì)可以在VirtualLab的嵌入的介質(zhì)目錄中找到。
X3tpW`alo 可用于設置復雜光學光柵結構(所謂的堆棧)和傅里葉模式法(FMM)分析。
[?r`8K2!, $xNM^O 斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 \CM/KrCR (5]<t&M
9n]zh- AH{]tE 斜光柵介質(zhì)為周期性結構自定義提供很多選項。
fLA!oeq{&} 首先,光柵脊和槽的
材料必須在基礎
參數(shù)選項中定義。
<%#M&9d)E 這些材料既可以從材料目錄選擇,也可以通過
折射率定義。
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