摘要：多層膜極紫外光刻掩模"白板"缺陷是制約下一代光刻技術發(fā)展的瓶頸之一，為提高對掩模"白板"上的膜層微結構缺陷的分辨能力，提出了一種微分干涉差共焦顯微探測系統(tǒng)方案。基于標量衍射理論，計算了系統(tǒng)橫向和軸向分辨率。利用MATLAB建模仿真，在數(shù)值孔徑為0.65、工作波長為405nm時，分析比較了微分干涉差共焦顯微系統(tǒng)、傳統(tǒng)顯微系統(tǒng)和共焦顯微系統(tǒng)的分辨率。結果表明微分干涉差共焦顯微系統(tǒng)具有230 nm的橫向分辨率和25 nm軸向臺階高度差的分辨能力（對應劃痕等缺陷形式）。此外，仿真和分析了實際應用中探測器尺寸、樣品軸向偏移等的影響，模擬分析了膜層微結構缺陷的探測，結果表明本系統(tǒng)可以探測200nm寬、10nm高的微結構缺陷，較另外兩種系統(tǒng)有更好的探測能力。
