這是一個實驗 不錯的實驗 @Risabn  
實驗35 真空鍍膜 XrC{{K  
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真空鍍膜技術(shù)，在現(xiàn)代工業(yè)和科技中有廣泛的應(yīng)用，例如光學(xué)儀器上的各種反射膜、增透膜和濾光片、電子器件中的薄膜電阻、大規(guī)模集成電路、硬質(zhì)保護(hù)膜、磁性薄膜等。通過本實驗可掌握真空鍍膜的實驗原理和方法。 d^ !3bv*h  
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[實驗?zāi)康腯 *wp'`3y}  
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1、熟悉真空的獲得與測量方法。 [ H>MeeR  
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2、掌握高真空蒸發(fā)鍍膜的基本工藝技術(shù)。 T-&CAD3 ,O  
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[實驗原理] B\|>i~u(  
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真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下的高速運(yùn)動轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。 `P/*