摘要 gD5P!}s[u0  
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高NA物鏡廣泛用于光學光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種鏡頭進行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 X4 Y
 
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圖片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任務(wù)
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圖片:1-1Q210141Z3L0.png

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概觀 kXCY))vnn  
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圖片:1-1Q21014202H61.png

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光線追跡仿真 ,M{Q}:$+4  
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•首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 ?to1rFrU  
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•點擊Go！ F1\`l{B,\  
•獲得3D光線追跡結(jié)果。 tU(y~)]  
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圖片:1-1Q2101423224L.png

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光線追跡仿真 Gb?g,>
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•然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為仿真引擎。 a0{[P$$  
•單擊Go！ $(XgKq&xWZ  
•結(jié)果，獲得點列圖（2D光線追跡結(jié)果）。 #_{0Ndp2  

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圖片:1-1Q210142613B5.png

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場追跡仿真 Jxn3$  
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•切換到場追跡并選擇“第二代場追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為仿真引擎。 qj`,qm P  
•單擊Go！ KS?mw`Nr  
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圖片:1-1Q210142A2533.png

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場追跡結(jié)果（攝像機探測器） IO*l vy  
Ma>:_0I5  
T!1SMo^  
•上圖只顯示整合了Ex和Ey場分量的強度。 "bPCOJ[v9  
•下圖顯示整合了Ex，Ey和Ez分量的強度。 yAAG2c4(  
Ez分量：由于在高NA情況下相對較大的Ez分量，可以看到明顯的不對稱性。 eQ$e*|}"m  
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圖片:1-1Q210142Q6438.png

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場追跡結(jié)果（電磁場探測器） pXve02b1B  
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