摘要：為滿足大氣輻射系統(tǒng)中光學(xué)元件的使用要求，即可見與近紅外波段高透過，根據(jù)雙有 效界面法設(shè)計原理配合膜系軟件設(shè)計膜系，采用離子輔助沉積，電子束真空鍍膜的方法，通過 對工藝參數(shù)的調(diào)整和監(jiān)控方法的改進(jìn)，制備400～1200 nm寬帶增透膜。所鍍膜層在垂直入射 時，400～1200 nm波段平均反射率小于 1%。同時對膜層牢固性進(jìn)行了測試，滿足大氣輻射系 統(tǒng)的使用要求。
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關(guān)鍵詞：光學(xué)薄膜；大氣輻射系統(tǒng)；寬帶增透膜；離子輔助

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