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大型光學表面納米精度制造
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發(fā)表于: 2019-04-21
關鍵詞:
納米
精度
光學制造
摘要:
納米
精度
光學
表面在光刻技術、同步輻射、空間觀測和慣約聚變等領域有重大需求。隨著裝備 性能需求的不斷提升,這些
光學
系統
對光學零件面形精度和表面質量的要求幾乎接近于
物理
極限,對光學制 造技術提出了更高挑戰(zhàn),使
光學制造
成為納米制造技術的發(fā)展前沿。通過攻克納米量級
材料
去除的穩(wěn)定性、 復雜
曲面
可控補償和裝備運動軸性能設計等關鍵問題,掌握了以磁流變和離子束
拋光
技術為代表的可控柔 體拋光技術,利用自主研發(fā)的拋光制造裝備和
工藝
實現了典型光學零件的納米精度制造,為國家相關科技項 目的順利實施提供有力的制造技術支撐。
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