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    [分享]Macleod中雙面鍍膜的模擬 [復制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2019-04-28
    關鍵詞: 鍍膜Macleod
    傳統(tǒng)意義上,Essential Macleod的設計是由一系列完全干涉的薄膜組成,并只在基板的一側形成膜層。而Stack是由一組膜層和基板組成,基板的兩個面是平行的,以便在相同材料中傳播角度相同。Stack中,膜層被介質(或基底)分開,介質(或基底)由其材料和厚度定義。入射介質和出射介質是半無限的,但其它介質的厚度都是有限的。另一方面,膜層是繼續(xù)支持完全一致性,即完全干涉。這通常是真實膜層和基底的情況,即考慮基板后表面反射或者鍍膜的情況。 {6;S= 9E\  
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    為什么介質或基板不支持干涉?這是一個系統(tǒng)問題。基板的厚度通常以毫米而不是納米來測量,因此路徑差異非常長。入射角、波長和厚度的微小變化,雖然對路徑差異的比例效應很小,但對它們所代表的相位變化有很大影響,因為許多波長都涉及到這些路徑差異。當各種光線組合在一起時,干涉條紋會被沖掉,只留下總的輻照度。在單個設計文檔時,我們總是假設使用完全準直的單色光,其中入射角和波長變化的相應影響通常很小,可以忽略不計,從而在設計中存在完全相干效應。 5oOFl  
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    圖1.基板足夠厚時,無需考慮干涉效應。如果考慮基板的干涉,要將基板看成一層薄膜,而整個系統(tǒng)看作一個膜系
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    另一個問題是,如果角度或波長的變化仍然較大,即使設計中的層也顯示出減少的干涉效應,那么會發(fā)生什么,什么叫做部分相干?此工具存在于Stack文檔中。計算參數(shù)包括光中缺少準直性(以圓錐半角表示)和缺少單色性(以光譜帶寬表示)的影響。這些在Design文檔中不可用(除非在Stack中設置,稍后將介紹)。 T<u QhPMw  
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