摘要：為保證半導體激光打標機F-θ鏡頭的掃描質量，實現(xiàn)系統(tǒng)像高與掃描角的線性變化，需對F-θ鏡頭給予一定的畸變量，并使其滿足等暈條件。分析F-θ鏡頭工作原理及像差要求，根據(jù)1 064 nm半導體激光打標機的光源成像要求選擇合適的玻璃材料，合理分配每片透鏡的光焦度，以保證等暈成像；根據(jù)F-θ鏡頭線性成像要求，計算系統(tǒng)總畸變量為1.6%，系統(tǒng)總畸變量為系統(tǒng)的實際桶形畸變與相對畸變量之和；在光學系統(tǒng)優(yōu)化設計時，引入這兩項優(yōu)化參數(shù)，優(yōu)化過程中觀察系統(tǒng)成像變化情況。設計結果表明：系統(tǒng)MTF曲線接近衍射極限，F(xiàn)-θ鏡頭相對畸變小于0.36%，各視場均方根半徑均小于艾里斑直徑，并且整個系統(tǒng)70%的能量集中在直徑為16 μm的圓內，系統(tǒng)總畸變量為1.58%，滿足設計指標要求。 ijUzC>O+q
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關鍵詞： F-θ鏡頭；畸變；等暈成像；半導體激光打標機
