摘要：為滿足嚴格的套刻需求，雙遠心結構的投影光刻物鏡需要選擇恰當的元件移動來進行倍率的補償和調節(jié)。 提出了一種簡單而實用的方法來進行倍率的公差分析。該方法利用商業(yè)優(yōu)化設計軟件和有限差分算法計算了多 項公差對物鏡倍率的敏感程度，同時結合公差對系統(tǒng)波像差的敏感度選擇最佳的倍率補償元件。利用以上方法， 對一臺雙遠心、工作波長193nm以及數值孔徑0.75的投影光刻物鏡進行了倍率的公差分析和補償器優(yōu)選。結果 顯示，系統(tǒng)較好地實現了±50x10-6的倍率調節(jié)功能，而系統(tǒng)波像差劣化程度均方根值小于1.5nm。 Fi?32e4KI5
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關鍵詞：光學設計；倍率；公差分析；投影光刻物鏡
