華為能等10年嗎？

看斗音后，上網(wǎng)查到的結(jié)果。轉(zhuǎn)載如下： B}[f]8jrM  
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最近小編在某音上看見一篇消息，上面說硅谷芯片“大神”尹志堯回國，帶回30多位芯片人才，60多項個人專利，以及5nm刻蝕機。這一條小時得到了19W多的點贊，2萬條留言，里面那么這條信息是真的還是假的呢？ JLE&nbKS  
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首先這件事是不是真的？這件事是真的，不過不是現(xiàn)在，而是2004年就回國了。可以說是一篇炒的不能再炒的“冷飯”。只是再這個特殊時期誤導了網(wǎng)上的小伙伴。 2nkA%^tR  
那么誰是尹志堯呢？可以說他曾經(jīng)被美國稱之為“硅谷之神”來形容，1978-1980年，在北京大學化學系攻讀碩士，1980年，前往加利福尼亞大學洛杉磯分校留學，并獲得物理化學博士學位，1984年，在硅谷Intel公司、LAM研究所、應用材料公司等電漿蝕刻供職16年。尹志堯曾發(fā)起硅谷中國工程師協(xié)會并擔任主席。可以說對于手機芯片的刻蝕技術有著杰出的貢獻。并且尹志堯個人在半導體領域就有16項個人專利。 T ?[28|  
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有一次在世界半導體展覽會上，尹志堯偶遇上海經(jīng)貿(mào)委副主任江上舟。江上舟仔細觀看了美國的應用材料設備以后說：看來刻蝕機比原子彈還要復雜，外國人用它來卡住我們的脖子，我們自己能不能把他造出來？ 4]U=Y>\Sr  
于是尹志堯在江上舟的鼓勵下，與2004年8月回國，當時的尹志堯已經(jīng)年過60，并且說服了一大批在硅谷當中正在做主流的半導體設備公司以及研究機構工作多年的華裔工程師。一起志同道合的人創(chuàng)辦了中微半導體。 (&e!u{I  
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當時尹志堯有一個目標，要用15年追趕，20年超越，直到2018年12月份的時候中微公司宣布5nm刻蝕技術。距離他當時定下的目標的時候已經(jīng)用了14年之久。而5nm刻蝕機是光刻機嗎？讓網(wǎng)友那么興奮，其實根本就不是一回事。 3 ,>M-F  
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昨天小編寫過一篇芯片的制造過程，在這小編在簡單的說一下，手機芯片制造過程可分為前道工序晶圓制造、后道工序封裝與檢測等。因生產(chǎn)工藝復雜，工序繁多，所以生產(chǎn)制造過程當中需要種類繁多的設備。 *<xu3){:c  
在晶圓制造中，就有七大生產(chǎn)鏈條，分別是擴散（Thermal Process）、光刻（Photo- lithography）、刻蝕（Etch）、離子注入（Ion Implant）、薄膜生長（Dielectric DeposiTIon）、拋光（CMP）、金屬化（MetalizaTIon），所對應的七大類生產(chǎn)鏈條設備分別為擴散爐、光刻機、刻蝕機、離子注入機、薄膜沉積設備、化學機械拋光機和清洗機。  8${n}}  
在晶圓制造中，由于光刻、刻蝕、沉積等流程在芯片生產(chǎn)過程中需要20到50次的反復制作，是芯片前端加工過程的三大核心技術，其設備價值也最高。 =PRQ3/?5  
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