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離線markborn

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2020-06-28

如何分析部分干涉成像系統(tǒng) （光刻機系統(tǒng)）

在光刻應(yīng)用中，所使用的光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系統(tǒng)中的掩模?
在這里給大家分享一個案例，希望可以幫到大家。


這里是一步一步的如何在ZEMAX 中操作：https://sot.com.sg/coherent-imaging/

這里是案例的ZEMAX 文件：備注：我用的ZEMAX 是20年版本，如果您版本過低，可能無法正常打開，請諒解！

如果不能打開文件，請告知我，我轉(zhuǎn)發(fā)給你。

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離線天藍色3230

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離線vurtne_000

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離線17310581236

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離線huangyang

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呦西呦西

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離線woshiyiyun

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只看該作者 5樓發(fā)表于: 2020-07-20

好東西謝謝

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離線xxma94

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只看該作者 6樓發(fā)表于: 2020-07-27

謝謝分享學(xué)習(xí)學(xué)習(xí)

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離線木子示羊

高級工程師

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只看該作者 7樓發(fā)表于: 2020-07-27

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離線bluelalal

實習(xí)生

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只看該作者 8樓發(fā)表于: 2020-07-28

哇偶，正好需要

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離線sxwpdpd

實習(xí)生

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學(xué)習(xí)一下，學(xué)做尚光人。

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