光行天下>光學(xué)檢測(cè)、光學(xué)測(cè)量與光機(jī)裝調(diào)>超高精度面形干涉檢測(cè)技術(shù)進(jìn)展

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離線ka2012

技術(shù)專家

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2020-09-14

關(guān)鍵詞：精度面形干涉

深紫外、極紫外光刻、先進(jìn)光源等現(xiàn)代光學(xué)工程牽引驅(qū)動(dòng)超精密光學(xué)技術(shù)持續(xù)發(fā)展，超精密光學(xué)制造要求與之精度相匹配的超高精度檢測(cè)技術(shù)。作為核心技術(shù)指標(biāo)之一的面形精度通常要求達(dá)到納米、深亞納米甚至幾十皮米量級(jí)，超高精度面形干涉檢測(cè)技術(shù)挑戰(zhàn)技術(shù)極限，具有重要研究意義和應(yīng)用價(jià)值。本文分析了面形干涉檢測(cè)技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)，主要介紹了中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所近年來在超高精度面形干涉檢測(cè)技術(shù)相關(guān)研究進(jìn)展。

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超高精度面形干涉檢測(cè)技術(shù)進(jìn)展.rar (2192 K) 下載次數(shù):32 ，售價(jià):2光幣[記錄]

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200833

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離線200833

科學(xué)家

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離線寶妮

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離線zhuangshengxin

實(shí)習(xí)生

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