10月14日,荷蘭
ASML(阿斯麥)公布了
光刻機產(chǎn)品的最新進展。其中TWINSCAN NXE:3600D作為其目前研發(fā)中的最先進光刻機
系統(tǒng),終于敲定最終規(guī)格。具體來說,30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓,提高了18%的生產(chǎn)率,并改進機器匹配套準(zhǔn)
精度至1.1nm。
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