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光學(xué)測(cè)量 > 干涉測(cè)量 mtf><YU ]E|E4K6g 任務(wù)/系統(tǒng)說明 j 9/hZqo
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P N(<=v&E 亮點(diǎn) &,QBJx<#
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79uAsI2-Y •從光線追跡分析到快速物理光學(xué)建模的簡(jiǎn)單轉(zhuǎn)換； q }]z8 L •對(duì)相干效應(yīng)以及干涉圖樣的高速仿真； 734H{,~
)`#SMLMy~ 具體要求：光源 =)f.Yf|A* nTE\EZ+=2  B$G9#G6pZ 1QbD ]"=n 具體要求：用于準(zhǔn)直的消色差透鏡 2]5ux!Lqln F!RP * xf;Tk 
u yo V) u)~::2BXAn $'w>doUlA  }- @h H( #.2} t0*]5 具體要求：分束器 !]MGIh#u "d*-k R  z>HM$n`YD
au+ a7~0~ 具體要求：參考光路反射鏡 .X"\ Mg +hIMfhF  ahR-^^'$
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Q SvgbjdE 具體要求：測(cè)試光路反射鏡
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ce{! 具體要求：探測(cè)器 8* sP )5 x,-m@  r#c+{yY mpzm6I eu 結(jié)果：3D光線追跡 V7 ?Pv
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!~>_ 1 ifPc5j} 結(jié)果：場(chǎng)追跡 lmx'w }^PdW3O*m,
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(y?`|=G-xT 結(jié)果：移動(dòng)樣品的場(chǎng)追跡結(jié)果 vl5r ~F 9U!#Y%*T  41o ~5 :& 通過掃描樣品的軸向位置，可以研究出樣品的形貌。 mk
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B0!W=T \ 文件&技術(shù)信息 Tl*FK?)MC^ 7.B]B,]
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