本月中旬，在日本東京舉辦了ITF論壇。論壇上，與ASML（阿斯麥）合作研發(fā)光刻機(jī)的比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。至少就目前而言，ASML對(duì)于3m、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路線規(guī)劃，且1nm時(shí)代的光刻機(jī)體積將增大不少。 7g7[a/Bts  
-I0J-~#  
<jAn~=Uq[,  
據(jù)稱在當(dāng)前臺(tái)積電、三星的7nm、5nm制造中已經(jīng)引入了NA=0.33的EUV曝光設(shè)備，2nm之后需要更高分辨率的曝光設(shè)備，也就是NA=0.55。好在ASML已經(jīng)完成了0.55NA曝光設(shè)備的基本設(shè)計(jì)（即NXE：5000系列），預(yù)計(jì)在2022年實(shí)現(xiàn)商業(yè)化。 Q8H+=L:  
jk\z-hd
 
至于上文提到的尺寸為何大幅增加就是光學(xué)器件增大所致，潔凈室指標(biāo)也達(dá)到天花板。 ` n#Db  
pw.K,?kYr  
阿斯麥目前在售的兩款極紫外光刻機(jī)分別是TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C，3600D計(jì)劃明年年中出貨，生產(chǎn)效率將提升18%。 I/B 峨眉山市| 万全县| 林甸县| 沙河市| 邵东县| 泸溪县| 顺昌县| 富宁县| 娄烦县| 威信县| 运城市| 九龙县| 天等县| 靖边县| 红河县| 布尔津县| 鹤山市| 顺昌县| 乌拉特前旗| 田林县| 双鸭山市| 若尔盖县| 游戏| 泰安市| 海林市| 桑植县| 肃北| 门头沟区| 鄂伦春自治旗| 亚东县| 汤阴县| 天镇县| 福安市| 金山区| 天全县| 德安县| 沧州市| 竹北市| 额济纳旗| 彝良县| 独山县|