光學(xué)薄膜可以采用物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)和化學(xué)液相沉積(CLD)三種技術(shù)來制備。 5JHEBw5W%  
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1.物理氣相沉積(PVD) eze%RjO}  
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PVD需要使用真空鍍膜機(jī)，制造成本高，但膜層厚度可以精確控制，膜層強(qiáng)度好，目前已被廣泛采用.在PVD法中，根據(jù)膜料氣化方式的不同，又分為熱蒸發(fā)、濺射、離子鍍及離子輔助鍍技術(shù).其中，光學(xué)薄膜主要采用熱蒸發(fā)及離子輔助鍍技術(shù)制造，濺射及離子鍍技術(shù)用于光學(xué)薄膜制造的工藝是近幾年才開始的。 ~]q>}/&YLo  
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1.1 熱蒸發(fā) ambr}+}  
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光學(xué)薄膜器件主要采用真空環(huán)境下的熱蒸發(fā)方法制造，此方法簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、操作方便.盡管光學(xué)薄膜制備技術(shù)得到長(zhǎng)足發(fā)展，但是真空熱蒸發(fā)依然是最主要的沉積手段，當(dāng)然熱蒸發(fā)技術(shù)本身也隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展與時(shí)俱進(jìn).?在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中待形成膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入射到固體(稱為襯底或基片)表面，凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。 D:/q<<|  
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熱蒸發(fā)的三種基本過程：由凝聚相轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀嗟南嘧冞^程；氣化原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間的運(yùn)輸，即這些粒子在環(huán)境氣氛中的飛行過程；蒸發(fā)原子或分子在基片表面的沉積過程。 &BRa5`  
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1.2 濺射 O1bW, n(  
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