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UID:317649
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- 注冊時間2020-06-19
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1. 摘要 jo-jPYH T )7!q>^S{B 高NA物鏡廣泛用于光刻,顯微等技術(shù)。因此,聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡,可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測器和電磁場探測器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究,進(jìn)而加深對矢量效應(yīng)的理解。 aVkgE> ~Sy/q]4ys*
dd1CuOd6(1 4M4Y2fBH 2. 建模任務(wù) =v^LShD2^ |R[@u=7s
!SRElb A;i XTboFrf 3. 概述 wJ#fmQXKJ5 ^ [FK<9 z
H$^.1 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 Mj&`Y
gW5a 下一步,我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。
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