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ASML未來四代EUV光刻機(jī)進(jìn)度披露:正向1nm邁進(jìn)

發(fā)布:cyqdesign 2021-03-18 15:56 閱讀:1073
日前,ASML產(chǎn)品營銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV(極紫外)光刻機(jī)的最新進(jìn)展。ASML現(xiàn)在主力出貨的EUV光刻機(jī)分別是NXE:3400B和3400C,它們的數(shù)值孔徑(NA)均為0.33,日期更近的3400C目前的可用性已經(jīng)達(dá)到90%左右。 KR63W:Z\'  
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預(yù)計(jì)今年年底前,NXE:3600D將開始交付,30mJ/cm2下的晶圓通量是160片,比3400C提高了18%,機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度也增加了,它預(yù)計(jì)會是未來臺積電、三星3nm制程的主要依托。 juM?y'A  
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在3600D之后,ASML規(guī)劃的三代光刻機(jī)分別是NEXT、EXE:5000和EXE:5200,其中從EXE:5000開始,數(shù)值孔徑提高到0.55,但要等待2022年晚些時(shí)候發(fā)貨了。 5E]I  
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由于光刻機(jī)從發(fā)貨到配置/培訓(xùn)完成需要長達(dá)兩年時(shí)間,0.55NA的大規(guī)模應(yīng)用要等到2025~2026年了,服務(wù)的應(yīng)該是臺積電2nm甚至1nm等工藝 fa)G$Q  
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0.55NA比0.33NA有著太多優(yōu)勢,包括更高的對比度、圖形曝光更低的成本、更高的生產(chǎn)效率等。  时尚| 旬阳县| 浦东新区| 伊金霍洛旗| 墨脱县| 大同县| 涞源县| 阜城县| 乌恰县| 荃湾区| 淮阳县| 昌邑市| 海宁市| 天门市| 浑源县| 栖霞市| 杭州市| 桐城市| 承德市| 互助| 深泽县| 新乡县| 渝北区| 龙游县| 邵阳县| 顺昌县| 白玉县| 郑州市| 峡江县| 乡城县| 宜兴市| 咸阳市| 乌恰县| 长海县| 十堰市| 青州市| 清镇市| 军事| 清苑县| 卢湾区| 唐海县|