NA1.35浸沒式光刻照明系統(tǒng)是超大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備, 為了實現(xiàn)從ArF激光器發(fā)出的光束經(jīng)過一系列模塊傳輸后到達(dá)掩模面的能量滿足光刻曝光系統(tǒng)的要求, 需要在系統(tǒng)中引入非球面透鏡, 以減少鏡片數(shù)量, 提高能量利用率。為解決現(xiàn)在非球面透鏡具有的加工難度和控制精度不足的缺陷,設(shè)計出一種優(yōu)化控制保證非球面加工和檢測的方法。在光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計中優(yōu)化非球面的形狀, 保證非球面度, 滿足非球面變化率在可加工和檢測的范圍內(nèi), 并控制非球面拐點的產(chǎn)生。照明系統(tǒng)中鏡片數(shù)量最多的模塊是耦合鏡組, 通過非球面的優(yōu)化, 鏡片數(shù)量從12片減少到9片, 系統(tǒng)能量利用率提高近25%。此外, 提高了系統(tǒng)像質(zhì)NA一致性, 像方遠(yuǎn)心度, 彌散斑直徑和畸變, 滿足了曝光光學(xué)系統(tǒng)對掩模面的能量要求, 故該非球面控制技術(shù)具有良好的可加工性和可檢測性。
